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 高温炉 >> 1400°真空/气氛管式炉(TF)  
 

产品名称:1400°真空/气氛管式炉(TF)
 
产品型号:CVD系列
 
产品参数:使用温度范围 300~1400℃
   
产品价格:电询元  
   
 
   产 品 说 明
1400°真空/气氛管式炉(TF)

使用温度范围   300~1400℃    温度控制精度    ±1℃          管径φ40φ50φ60         φ80

提供具有真空、可控气氛及高温的实验环境,应用在半导体、纳米技术、碳纤维等领域

■产品用途:

此款CVD生长系统适用于CVD工艺,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结等实验。

■产品特点:

炉膛采用多晶莫来纤维真空吸附制成,温场均匀节能50%以上
专利的空气导流隔热技术保证箱内各部件的使用寿命及恒温效果
启动电炉,排温风机同时自动运行,试验结束后,排温风机将继续运行,直至炉体温度低于60℃,排温风机自行停止,有效保护了炉体表面
自动断电、超温保护功能、漏电保护功能,以确保使用的安全性
电路采用连续加热输出方式,双回路供电,强弱电单独走线提高了系统的稳定性
加热模块采用直流信号调节输出功率,避免了感应电对控制信号的干扰
自动补偿由于温度或老化对硅碳棒阻值变化带来的控温影响,避免人为调节的不准确性和危险性
采用数显流量显示仪,配合质量流量控制器,采集数据并控制流量。具有控制精度高,重复性好,相应速度快,稳定可靠等特点。(气体质量流量控制系统)
自动控制与手动控制切换功能,自动控制模式能通过设定值自动开启/关闭真空泵,使容器内保持在一定的真空压力范围内。手动控制模式使用用户通过真空泵开启/关闭按钮直接操作真空泵。以满足不同实验的需要。(中真空控制系统)
电磁阀缓启动技术,使电磁阀在真空泵开启10秒钟后打开,使炉管内系统压力保持准确,也保证了废气不会返回到炉管系统影响实验效果(中真空控制系统)
■安全性:
过升报警、菜单锁定、过升防止、复电延时。
采用单向阀技术,使气体流量在可控压力范围内控制,保证安全。
采用混气罐装置,使气体可以在充分混合后导入工作室内,确保不会泄露。
■技术参数:

点击数:238  录入时间:2019-07-01 【打印此页】 【关闭
 
     
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